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产品概述

GSR065D34A

GSR065D034 650V、50 mΩ 氮化镓 (GaN) FET 是一款常关器件。它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。使用先进的外延和专利的设计技术来简化可制造性,同时通过降低栅极电荷、输出电容、交叉损耗和反向恢复电荷来提高器件效率。

氮化镓芯片 第三代半导体 金沙江半导体 半导体芯片 GaN芯片
产品规范 技术支持与服务

简介

GSR065D34(650V SuperGaN® FET in TO-263)

GSR065D034 650V、50 mΩ 氮化镓 (GaN) FET 是一款常关器件。它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。

使用先进的外延和专利的设计技术来简化可制造性,同时通过降低栅极电荷、输出电容、交叉损耗和反向恢复电荷来提高器件效率。

 

产品特征

  • 通过JEDEC认证的氮化镓技术
  • 动态导通电阻生产测试
  • 稳健的设计,定义为
    • 宽栅安全裕度
    • 瞬态过压能力
  • 具有增强的浪涌电流能力
  • 极低的QRR
  • 交叉损耗减小

 

产品优点

  • 启用图腾柱无桥PFC设计
    • 提高功率密度
    • 减小系统尺寸和重量
    • 整体系统成本更低
  • 提高硬开关和软开关电路的效率
  • 易于使用常用的栅极驱动器易于驱动
  • GSD引脚布局改进了高速设计

 

应用

  • 数据通信
  • 广泛的工业应用
  • 光伏逆变器
  • 伺服电机应用
  •  
主要规格
VDSS (V)650
VDSS(TR)(V)800
RDS(on)eff (mΩ) max*60
QRR (nC) typ120
QG (nC) typ16

绝对最大额定值 (Tc=25°C 除非另有说明)

SymbolParameterLimit ValueUnit
VDSSDrain to source voltage (TJ = -55°C to 150°C)650

 

V

VDSS(TR)Transient drain to source voltage a800
VGSSGate to source voltage±20
PDMaximum power dissipation @TC=25°C119W

 

ID

Continuous drain current @TC=25°C b34A
Continuous drain current @TC=100°C b22A
IDMPulsed drain current (pulse width: 10µs)150A
TC

 

Operating temperature

Case-55 to +150°C
TJJunction-55 to +150°C
TSStorage temperature-55 to +150°C
TSOLDSoldering peak temperature c260°C

Notes:

  1. 在关断状态下,尖峰占空比D<0.01,尖峰持续时间<30μs,无重复
  2. 为了提高高电流操作下的稳定性,请参见第3页上的电路实现
  3. 回流焊 MSL3

 

热阻

SymbolParameterMaximumUnit
RΘJCJunction-to-case1.05°C/W
RΘJAJunction-to-ambient40°C/W

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Forward Device Characteristics
VDSS(BL)Drain-source voltage650VVGS=0V
VGS(th)Gate threshold voltage3.344.8V

 

VDS=VGS, ID=0.7mA

ΔVGS(th)/TJ

Gate threshold voltage temperature

coefficient

-6.2mV/°C

 

RDS(on)eff

 

Drain-source on-resistance a

5060

 

mΩ

VGS=10V, ID=22A
105VGS=10V, ID=22A, TJ=150°C

 

IDSS

 

Drain-to-source leakage current

440

 

µA

VDS=650V, VGS=0V
15VDS=650V, VGS=0V, TJ=150°C

 

IGSS

 

Gate-to-source forward leakage current

100

 

nA

VGS=20V
-100VGS=-20V
CISSInput capacitance1000

 

 

pF

 

 

VGS=0V, VDS=400V, f=1MHz

COSSOutput capacitance110
CRSSReverse transfer capacitance6
CO(er)Output capacitance, energy related b164

 

pF

 

VGS=0V, VDS=0V to 400V

CO(tr)Output capacitance, time related c280
QGTotal gate charge1624

 

nC

 

VDS=400V, VGS=0V to 10V, ID=22A

QGSGate-source charge6
QGDGate-drain charge5
QOSSOutput charge120nCVGS=0V, VDS=0V to 400V
tD(on)Turn-on delay49.2

 

 

ns

 

VDS=400V, VGS=0V to 10V, ID=22A, Rg=45Ω, ZFB=240Ω at

100MHz (See Figure 14)

tRRise time11.3
tD(off)Turn-off delay88.3
tFFall time10.9

Notes:

  1. 动态导通电阻;有关测试电路和条件,请参见图 17 和图 18
  2. 当VDS从0V上升到400V时,提供相同存储能量的等效电容
  3. 当VDS从0V上升到400V时,提供相同充电时间的等效电容


电气参数 (TJ=25°C 除非另有说明)

 

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Reverse Device Characteristics
ISReverse current22A

VGS=0V, TC=100°C,

≤25% duty cycle

 

VSD

 

Reverse voltage  a

2.22.6

 

V

VGS=0V, IS=22A
1.61.9VGS=0V, IS=11A
tRRReverse recovery time50ns

 

IS=22A, VDD=400V

QRRReverse recovery charge120nC

 

(di/dt)RM

 

Reverse diode di/dt b

 

 

 

2500

 

A/µs

Circuit implementation and parameters on page 3

Notes:

  1. 包括动态RDS(on)效果
  2. 反向传导di/dt不会超过推荐RG的这个最大值


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江苏镓宏半导体有限公司

江苏镓宏半导体有限公司(原徐州金沙江半导体有限公司)成立于2021年,项目发起人为氮化镓领域(GaN HEMT、氮化镓HEMT等GaN 功率晶体管器件,以及氮化镓外延片、氮化镓应用技术)领军人物, 以业内领先的氮化镓功率器件和其全新应用为拳头产品,充分发挥国际领先的6-8寸硅基氮化镓功率器件全套生产制造技术的优势,汇集供应链资源、核心技术、产品制造、核心客户、资本市场和地方政府支持等关键资源,组织筹建新型的IDM产品平台,助力中国在第三代半导体产业领域的跨越式发展。

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