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产品概述

GSR065D25

GSR065D25 系列 650V、72mΩ 氮化镓 (GaN) FET 为常关型器件。 它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。通过更低的栅极电荷、更低的交叉损耗和更小的反向恢复电荷提供比硅更高的效率。

氮化镓芯片 电源芯片 GaN芯片 第三代半导体
产品规范 技术支持与服务

产品说明

GSR065D25(650V GaN FET PQFN Series)

GSR065D25 系列 650V、72mΩ 氮化镓 (GaN) FET 为常关型器件。 它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。

通过更低的栅极电荷、更低的交叉损耗和更小的反向恢复电荷提供比硅更高的效率。

 

产品特征

  • 通过JEDEC认证的氮化镓技术
  • 动态导通电阻生产测试
    • 稳健的设计,定义为
    • 固有寿命测试
    • 宽栅安全裕度
    • 瞬态过压能力
    • 极低的QRR
    • 减少交叉损耗
    • 符合 RoHS 标准和无卤指令封装

产品优点

  • 提高 Si 的效率/工作频率
  • 启用图腾柱无桥PFC设计
  • 提高功率密度
  • 减小系统尺寸和重量
  • 整体系统成本更低
  • 易于使用常用的栅极驱动器易于驱动
  • GSD引脚布局改进了高速设计

产品应用

  • 数据通信
  • 广泛的工业应用
  • 光伏逆变器
  • 伺服电机应用


 

主要规格
VDSS (V)650
VDSS(TR) (V)800
RDS(on)eff (mΩ) max*85
QRR (nC) typ89
QG (nC) typ9.3

绝对最大额定值 (Tc=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterLimit ValueUnit
VDSSDrain to source voltage (TJ = -55°C to 150°C)650

 

V

VDSS(TR)Transient drain to source voltage a800
VGSSGate to source voltage±20
PDMaximum power dissipation @TC=25°C96W

 

ID

Continuous drain current @TC=25°C  b25A
Continuous drain current @TC=100°C  b16A
IDMPulsed drain current (pulse width: 10µs)120A
(di/dt)RDMCReverse diode di/dt, repetitive c1200A/µs
(di/dt)RDMTReverse diode di/dt, transient d2600A/µs
TC

 

Operating temperature

Case-55 to +150°C
TJJunction-55 to +150°C
TSStorage temperature-55 to +150°C
TSOLDReflow soldering temperature e260°C

Notes:

  1. 在关断状态下,尖峰占空比D<0.01,尖峰持续时间<1μs
  2. 为了提高高电流操作下的稳定性,请参见第 3 页上的电路实现
  3. 连续开关操作
  4. ≤300 个脉冲/秒,总持续时间 ≤20 分钟
  5. 回流焊 MSL3

 

热阻

 

SymbolParameterMaximumUnit
RΘJCJunction-to-case1.3°C/W
RΘJAJunction-to-ambient  f62°C/W

Notes:

f.       用于漏极连接的一层环氧树脂 PCB 上的器件(垂直且无气流冷却,铜面积为 6cm2,厚度为 70µm)


推荐的栅极驱动:(0V, 12V) RG(tot) = 50-70Ω, RG(tot) = RG + RDRIVER 

 

 

Gate Ferrite Bead (FB1)Required DC Link RC Snubber (RCDCL) a

Recommended Switching Node

RC Snubber (RCSN) b, c

240ohm at 100MHz[10nF + 10Ω] x 268pF + 15Ω

Notes:

 

  1. RCDCL 应尽可能靠近漏极引脚
  2. 对于高开关电流(> IRDMC1 或 IRDMC2 的 70%;有关 IRDMC1 和  IRDMC2,请参见第 5 页),建议使用开关节点 RC 缓冲器(C、R)
  3. 通过增加RG和CSN可以增加IRDM值

 

 栅回路:

  • 栅极驱动器:SiLab Si823x/Si827x
  • 保持栅极回路紧凑
  • 最小化与电源回路的耦合

电源回路:

  • 最小化电源回路路径电感
  • 将开关节点与高低功率平面的耦合降至最低
  • 添加 DC 总线缓冲器以减少电压振铃
  • 添加开关节点缓冲器以实现大电流操作


电气参数 (TJ=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Forward Device Characteristics
VDSS(BL)Drain-source voltage650VVGS=0V
VGS(th)Gate threshold voltage3.344.8VVDS=VGS, ID=0.7mA

 

RDS(on)eff

 

Drain-source on-resistance a

7285

 

mΩ

VGS=10V, ID=16A,TJ=25°C
148VGS=10V, ID=16A, TJ=150°C

 

IDSS

 

Drain-to-source leakage current

330

 

µA

VDS=650V, VGS=0V, TJ=25°C
12VDS=650V, VGS=0V, TJ=150°C

 

IGSS

Gate-to-source forward leakage current100

 

nA

VGS=20V
Gate-to-source reverse leakage current-100VGS=-20V
CISSInput capacitance600

 

pF

 

VGS=0V, VDS=400V, f=1MHz

COSSOutput capacitance88
CRSSReverse transfer capacitance4.5
CO(er)Output capacitance, energy related b131

 

pF

 

VGS=0V, VDS=0V to 400V

CO(tr)Output capacitance, time related c217
QGTotal gate charge9.3

 

nC

 

VDS=400V, VGS=0V to 10V, ID=16A

QGSGate-source charge3.5
QGDGate-drain charge2.3
QOSSOutput charge85nCVGS=0V, VDS=0V to 400V
tD(on)Turn-on delay29

 

 

ns

 

VDS=400V, VGS=0V to 12V, ID=16A, RG=50Ω,

ZFB= 240Ω at 100MHz

tRRise time7.5
tD(off)Turn-off delay45
tFFall time8.2

Notes:

  1. 动态导通电阻;有关测试电路和条件,请参见图 17 和图 18
  2. 当 VDS 从 0V 上升到 400V 时,提供相同存储能量的等效电容
  3. 当 VDS 从 0V 上升到 400V 时,提供相同充电时间的等效电容


电气参数 (TJ=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Reverse Device Characteristics
ISReverse current16A

VGS=0V, TC=100°C,

≤25% duty cycle

 

VSD

 

Reverse voltage  a

1.8

 

V

VGS=0V, IS=16A
1.3VGS=0V, IS=8A
tRRReverse recovery time33ns

IS=16A, VDD=400V,

di/dt=1000A/ms

QRRReverse recovery charge89nC

 

(di/dt)RDMC

 

Reverse diode di/dt, repetitive b

 

 

 

1200

 

A/µs

 

 

IRDMC1

Reverse diode switching current, repeti- tive (dc) c, e

 

 

 

18

 

A

Circuit implementation and parameters on page 3

 

IRDMC2

Reverse diode switching current, repeti- tive (ac) c, e

 

 

 

23

 

A

Circuit implementation and parameters on page 3

 

(di/dt)RDMT

 

Reverse diode di/dt, transient d

 

 

 

2600

 

A/µs

 

 

IRDMT

Reverse diodeswitching current, transi-

ent d,e

 

 

 

28

 

A

Circuit implementation and

parameters on page 3

Notes:

  1. 包括动态 RDS(on) 的影响
  2. 连续开关操作
  3. 定义: dc = DC-DC 转换器拓扑结构; ac = 逆变器和 PFC 拓扑结构,50-60Hz 线频率
  4. ≤300 个脉冲/秒,总持续时间 ≤20 分钟
  5. IRDM 值可以通过增加 RG 和 CSN 来增加(第 3 页)


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江苏镓宏半导体有限公司

江苏镓宏半导体有限公司(原徐州金沙江半导体有限公司)成立于2021年,项目发起人为氮化镓领域(GaN HEMT、氮化镓HEMT等GaN 功率晶体管器件,以及氮化镓外延片、氮化镓应用技术)领军人物, 以业内领先的氮化镓功率器件和其全新应用为拳头产品,充分发挥国际领先的6-8寸硅基氮化镓功率器件全套生产制造技术的优势,汇集供应链资源、核心技术、产品制造、核心客户、资本市场和地方政府支持等关键资源,组织筹建新型的IDM产品平台,助力中国在第三代半导体产业领域的跨越式发展。

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